-
Àüó¸® ¼³ºñ(Pre-Treatment System)
¿ø¼ö(Raw Water)¿¡ Æ÷ÇÔµÈ ¹Ì¼¼ ºÎÀ¯ ÀÔÀÚ ¹× ÇöŹ °íÇü¹°(SS), ÀÜ·ù ¿°¼Ò µîÀ» Á¤¹ÐÇÏ°Ô Á¦°ÅÇØ ÈÄ´Ü RO ¼³ºñÀÇ ¿À¿°À» ¹æÁöÇϰí, Àü °øÁ¤ÀÇ ¾ÈÁ¤¼ºÀ» È®º¸ÇÏ°í ¹«°áÁ¡ Ãʼø¼ö »ý»êÀ» À§ÇÑ ÃÖÀûÀÇ Àüó¸® ȯ°æÀ» º¸Àå
-

- MMF (Multi-Media Filter)
- ´ÙÃþ ¿©°ú¸¦ ÅëÇÑ Å¹µµ ¹× ºÎÀ¯¹°Áú Á¦°Å
-

- ACF (Activated Carbon Filter)
- Ȱ¼ºÅº ÈíÂøÀ» ÀÌ¿ëÇÑ ÀÜ·ù ¿°¼Ò(Cl), À¯±â¹°, ³¿»õ Á¦°Å (RO º¸È£)
-

- Cation IX (Softener)
- °æµµ ¼ººÐ (Ca2+, Mg2+) Á¦°Å¸¦ ÅëÇÑ ½ºÄÉÀÏ ¹æÁö
-

- Degasifier (DG)
- ¿ëÁ¸ CO2 Á¦°Å ¹× À½À̿ ±³È¯¼öÁö ºÎÇÏ °æ°¨
-
1Â÷ ¼ø¼ö Á¦Á¶ ¼³ºñ(Make-Up System)
¿ª»ïÅõ(RO) ¹× À̿±³È¯ °øÁ¤À» ÅëÇØ Àü󸮼ö ³» ÀÌ¿Â, À¯±â¹°(TOC), ¹Ì¸³ÀÚ µîÀ» 99% ÀÌ»ó Á¦°ÅÇϸç, ÃÖÁ¾ Ãʼø¼ö(UPW) ǰÁúÀÇ ÇÙ½ÉÀÎ °íǰÁú ºñÀúÇ×(Resistivity)À» È®º¸ÇØ ½Ã½ºÅÛ ÀüüÀÇ Á¤¹Ð Á¤Á¦ È¿À²°ú °øÁ¤ ½Å·Ú¼ºÀ» ±Ø´ëÈÇÕ´Ï´Ù.
-

- Heat Exchanger
- ¼ö¿ÂÀ» 25¡¾1¨¬C·Î ÀÏÁ¤ÇÏ°Ô À¯ÁöÇÏ¿© RO È¿À² ÃÖÀûÈ
-

- RO (Reverse Osmosis)
- ¿ª»ïÅõ¾Ð ¿ø¸®¸¦ ÀÌ¿ëÇØ ÀÌ¿Â, À¯±â¹°, ¹Ì¸³ÀÚ¸¦ °¡Àå ±¤¹üÀ§ÇÏ°Ô Á¦°Å (ÇÙ½É °øÁ¤)
-

- VDG (Vacuum Degasifier)
- Áø°ø ¹× ±âü ºÐ¸®¸·À» ÀÌ¿ëÇØ ¿ëÁ¸ »ê¼Ò (DO) ¹× ź»ê°¡½º Á¦°Å
-

- C-EDI / Mixed Bed
- Àü±âÀû Å»À̿ ¹æ½Ä ¶Ç´Â À̿±³È¯¼öÁö¸¦ ÅëÇØ ÀÜ·ù ÀÌ¿ÂÀ» Á¦°ÅÇÏ¿© ºñÀúÇ× (Resistivity) È®º¸
-
Ãʼø¼ö Á¦Á¶ ¼³ºñ(Polishing System)
1Â÷ ¼ø¼ö ³» ÀÜ·ù À̿°ú TOC, ¹Ì¸³ÀÚ¸¦ ¿Ïº®È÷ Á¦°ÅÇØ ÀÌ·Ð ¼øµµÀÇ Ãʼø¼ö¸¦ »ý»êÇϰí, ½Ä°¢ ºÎ»ê¹° Á¦°Å µî Fab ¼¼Á¤ °øÁ¤ÀÇ ¼öÀ² ±Ø´ëȸ¦ À§ÇØ ¹«°áÁ¡ ¼öÁúÀ» ¾ÈÁ¤ÀûÀ¸·Î °ø±ÞÇÕ´Ï´Ù.
-

- UV Oxidizer
- 185 nm ÆÄÀåÀÇ Àڿܼ±À» ÀÌ¿ëÇØ ³ºÐÇØ¼º ¹Ì·® À¯±â¹°(TOC)À» »êÈ/ºÐÇØ (CO2 ûù)
-

- Polisher (Mixed Bed)
- °íµµ·Î Á¤Á¦µÈ À̿±³È¯¼öÁö¸¦ »ç¿ëÇØ UV »êÈ ºÎ»ê¹° ¹× ÀÜ·ù À̿ ¿Ïº® Á¦°Å
-

- UF (Ultra Filtration)
- ÃÖÁ¾ÀûÀ¸·Î ¹Ì¸³ÀÚ (Particle)¿Í ¹ÚÅ׸®¾Æ »çü¸¦ Á¦°ÅÇÏ´Â ¸¶Áö¸· ÇÊÅÍ


