º»¹®¹Ù·Î°¡±â

PRODUCT

Àüó¸® ¼³ºñ(Pre-Treatment System)

¿ø¼ö(Raw Water)¿¡ Æ÷ÇÔµÈ ¹Ì¼¼ ºÎÀ¯ ÀÔÀÚ ¹× ÇöŹ °íÇü¹°(SS), ÀÜ·ù ¿°¼Ò µîÀ» Á¤¹ÐÇÏ°Ô Á¦°ÅÇØ ÈÄ´Ü RO ¼³ºñÀÇ ¿À¿°À» ¹æÁöÇϰí, Àü °øÁ¤ÀÇ ¾ÈÁ¤¼ºÀ» È®º¸ÇÏ°í ¹«°áÁ¡ Ãʼø¼ö »ý»êÀ» À§ÇÑ ÃÖÀûÀÇ Àüó¸® ȯ°æÀ» º¸Àå

  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    MMF (Multi-Media Filter)
    ´ÙÃþ ¿©°ú¸¦ ÅëÇÑ Å¹µµ ¹× ºÎÀ¯¹°Áú Á¦°Å
  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    ACF (Activated Carbon Filter)
    Ȱ¼ºÅº ÈíÂøÀ» ÀÌ¿ëÇÑ ÀÜ·ù ¿°¼Ò(Cl), À¯±â¹°, ³¿»õ Á¦°Å (RO º¸È£)
  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    Cation IX (Softener)
    °æµµ ¼ººÐ (Ca2+, Mg2+) Á¦°Å¸¦ ÅëÇÑ ½ºÄÉÀÏ ¹æÁö
  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    Degasifier (DG)
    ¿ëÁ¸ CO2 Á¦°Å ¹× À½À̿ ±³È¯¼öÁö ºÎÇÏ °æ°¨

1Â÷ ¼ø¼ö Á¦Á¶ ¼³ºñ(Make-Up System)

¿ª»ïÅõ(RO) ¹× À̿±³È¯ °øÁ¤À» ÅëÇØ Àü󸮼ö ³» ÀÌ¿Â, À¯±â¹°(TOC), ¹Ì¸³ÀÚ µîÀ» 99% ÀÌ»ó Á¦°ÅÇϸç, ÃÖÁ¾ Ãʼø¼ö(UPW) ǰÁúÀÇ ÇÙ½ÉÀÎ °íǰÁú ºñÀúÇ×(Resistivity)À» È®º¸ÇØ ½Ã½ºÅÛ ÀüüÀÇ Á¤¹Ð Á¤Á¦ È¿À²°ú °øÁ¤ ½Å·Ú¼ºÀ» ±Ø´ëÈ­ÇÕ´Ï´Ù.

  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    Heat Exchanger
    ¼ö¿ÂÀ» 25¡¾1¨¬C·Î ÀÏÁ¤ÇÏ°Ô À¯ÁöÇÏ¿© RO È¿À² ÃÖÀûÈ­
  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    RO (Reverse Osmosis)
    ¿ª»ïÅõ¾Ð ¿ø¸®¸¦ ÀÌ¿ëÇØ ÀÌ¿Â, À¯±â¹°, ¹Ì¸³ÀÚ¸¦ °¡Àå ±¤¹üÀ§ÇÏ°Ô Á¦°Å (ÇÙ½É °øÁ¤)
  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    VDG (Vacuum Degasifier)
    Áø°ø ¹× ±âü ºÐ¸®¸·À» ÀÌ¿ëÇØ ¿ëÁ¸ »ê¼Ò (DO) ¹× ź»ê°¡½º Á¦°Å
  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    C-EDI / Mixed Bed
    Àü±âÀû Å»À̿ ¹æ½Ä ¶Ç´Â À̿±³È¯¼öÁö¸¦ ÅëÇØ ÀÜ·ù ÀÌ¿ÂÀ» Á¦°ÅÇÏ¿© ºñÀúÇ× (Resistivity) È®º¸

Ãʼø¼ö Á¦Á¶ ¼³ºñ(Polishing System)

1Â÷ ¼ø¼ö ³» ÀÜ·ù À̿°ú TOC, ¹Ì¸³ÀÚ¸¦ ¿Ïº®È÷ Á¦°ÅÇØ ÀÌ·Ð ¼øµµÀÇ Ãʼø¼ö¸¦ »ý»êÇϰí, ½Ä°¢ ºÎ»ê¹° Á¦°Å µî Fab ¼¼Á¤ °øÁ¤ÀÇ ¼öÀ² ±Ø´ëÈ­¸¦ À§ÇØ ¹«°áÁ¡ ¼öÁúÀ» ¾ÈÁ¤ÀûÀ¸·Î °ø±ÞÇÕ´Ï´Ù.

  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    UV Oxidizer
    185 nm ÆÄÀåÀÇ Àڿܼ±À» ÀÌ¿ëÇØ ³­ºÐÇØ¼º ¹Ì·® À¯±â¹°(TOC)À» »êÈ­/ºÐÇØ (CO2 ûù)
  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    Polisher (Mixed Bed)
    °íµµ·Î Á¤Á¦µÈ À̿±³È¯¼öÁö¸¦ »ç¿ëÇØ UV »êÈ­ ºÎ»ê¹° ¹× ÀÜ·ù À̿ ¿Ïº® Á¦°Å
  • Áö¾ØÁöÀÎÅØ
    UF (Ultra Filtration)
    ÃÖÁ¾ÀûÀ¸·Î ¹Ì¸³ÀÚ (Particle)¿Í ¹ÚÅ׸®¾Æ »çü¸¦ Á¦°ÅÇÏ´Â ¸¶Áö¸· ÇÊÅÍ